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先進(jìn)的射線照相技術(shù)與計(jì)算機(jī)集成

前幾節(jié)討論了沒(méi)有計(jì)算機(jī)輔助就無(wú)法實(shí)現(xiàn)的技術(shù)。這些技術(shù)有一個(gè)共同特點(diǎn),即數(shù)據(jù)的處理、解釋和存儲(chǔ)是由中央計(jì)算機(jī)和顯示器完成的,也稱為工作站。在本章中,計(jì)算機(jī)在討論的一些技術(shù)中也扮演著越來(lái)越重要的角色。例如,如果沒(méi)有計(jì)算機(jī),計(jì)算機(jī)斷層掃描(CT)和康普頓后散射技術(shù)就不會(huì)存在。

隨著微焦點(diǎn)X光管的引入,其焦點(diǎn)大小為10-20微米,也開(kāi)發(fā)了新的特殊技術(shù)。

如圖1-17所示,將物體靠近這種微焦點(diǎn)X光管,并將膠片或探測(cè)器放置在較遠(yuǎn)的地方,就可以獲得放大的圖像。因此,任何缺陷也將被放大,但仍然保持足夠的清晰度。

如圖1-17所示的任何不清晰度,都由F1和F2之間的關(guān)系以及Uf的大小決定。

有效不清晰度按以下方式計(jì)算:Ug = Uf (F2 – F1) / F1

例如:

一個(gè)150 kV的X光管,焦點(diǎn)大小為20微米,焦點(diǎn)到物體的距離(F1)為50毫米,焦點(diǎn)到膠片的距離(F2)為550毫米,將會(huì)有一個(gè)幾何不清晰度:

與使用標(biāo)準(zhǔn)曝光相比,使用微焦點(diǎn)X光管進(jìn)行膠片圖像放大技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn):

較小的缺陷可以辨識(shí),

由于照射物體的部分較小,因此背景散射較少,

分辨率更高,因?yàn)槭欠糯髨D像而非膠片顆粒。

缺點(diǎn)包括:

如果需要單獨(dú)的高真空設(shè)備,成本較高,

耗時(shí)較長(zhǎng),因?yàn)槊看纹毓庵荒苷丈湮矬w的一小部分,因此需要更多的曝光。

放大技術(shù)主要與輻射敏感設(shè)備結(jié)合使用,例如熒光屏、圖像增強(qiáng)器或平板探測(cè)器,以及放置在安全距離的閉路電視系統(tǒng)。

閉路電視系統(tǒng)可以由用于圖像處理和/或增強(qiáng)的計(jì)算機(jī)工作站替代,以便于解釋,如圖2-17所示。

射線照相技術(shù)與計(jì)算機(jī)集成