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什么決定了放射照片中的幾何清晰度?

決定放射照片中缺陷可識(shí)別性的有三個(gè)因素:

1.幾何效應(yīng):

  • 光源大小
  • 光源到物體的距離
  • 缺陷到膠片的距離

2.膠片屬性(決定圖像質(zhì)量):

  • 顆粒度
  • 對(duì)比度
  • 霧化
  • 固有的不清晰度

3.應(yīng)用的輻射質(zhì)量。

什么導(dǎo)致放射照片的幾何不清晰度?

幾何不清晰度

X射線管和放射性來源總是會(huì)因焦點(diǎn)或光源大小維度的有限性而產(chǎn)生一定程度的模糊放射照片,即圖1-11中的“幾何不清晰度” Ug。

anode:陽極
Source: 源頭
Film:膠片
Density across film:薄膜密度
Geometric unsharpness.幾何不清晰度
The source diameter, S, is shown very large for clarity. -- 為了清楚起見,對(duì)源直徑 S 的大小進(jìn)行了放大。
這種不清晰度的大小,Ug, 可以用以下的公式表示:
s是指有效焦點(diǎn)(或源頭)的大小
F是指焦點(diǎn)到膠片(或源頭到膠片)的距離
a是指缺陷到膠片的距離
與膠片的最大距離位置(當(dāng)a=t時(shí))的缺陷相關(guān)的Ug 的最大值可以根據(jù)以下公式計(jì)算:
t=the thickness of the object 物體的厚度

在這種情況下,缺陷的兩個(gè)邊緣的不清晰圖像可能會(huì)重疊,如示例C所示。因此,C圖像不僅變得不清晰,而且與使用點(diǎn)光源制成的圖像A和使用相對(duì)較小的光源制成的圖像B相比,對(duì)比度也降低。

固有不清晰度

不僅受到X射線直接照射的鹵化銀晶體會(huì)形成銀粒,而且(盡管程度較低)乳劑的周圍體積也會(huì)發(fā)生這種變化。這個(gè)橫截面區(qū)域代表“固有不清晰度”或“膠片不清晰度” Uf

因此,即使在沒有幾何不清晰度的情況下,如果輻射能量足夠高,仍然可能出現(xiàn)膠片的不清晰度,即所謂的“固有不清晰度”。如果用高能X射線對(duì)帶有銳利厚度過渡的鋼試驗(yàn)板進(jìn)行射線照相,那么“階梯”的圖像的膠片密度會(huì)從A到B逐漸過渡。

如果沒有固有的不清晰度,膠片將顯示兩個(gè)密度之間的絕對(duì)銳利的過渡,如圖3a-11所示。實(shí)際上,圖像的密度變化如圖3b、3c和3d-11所示。

Fig.3-11. Inherent(film) unsharpness for X and Gamma-radiation: X和伽馬輻射的固有(膠片)不銳度.
For clarity, the density curves are magnified along the X-axis. 為清楚起見,密度曲線沿 X 軸放大
(a) Density distribution across image of sharp edge, assuming U=0: 銳邊圖像上的密度分布,假設(shè)U=0
(b) (c) and(d) density distribution due to film unsharpness (b)theorectical; (C)with grain;(d)
smoothed: (c)和(d)由于薄膜不銳化引起的密度分布(b)理論的;(c)有顆粒度的;(d)平滑的

這個(gè)過渡區(qū)域的寬度(Uf),以毫米表示,是膠片不清晰度的衡量標(biāo)準(zhǔn)。

表1-11和圖4-11顯示了在不同輻射能量水平下曝光的膠片的固有不清晰度的實(shí)驗(yàn)確定值。這些值是基于使用濾波器和薄鉛增強(qiáng)屏的;更厚的屏幕會(huì)產(chǎn)生稍高的值。如果不使用鉛屏幕,
Uf會(huì)小1.5到2倍。Uf主要受輻射強(qiáng)度和所使用的增強(qiáng)屏類型的影響;膠片的類型幾乎沒有任何影響。

膠片和增強(qiáng)屏之間的距離對(duì)Uf的值非常重要。

膠片和增強(qiáng)屏之間的良好接觸是必要的,可以通過將膠片和屏幕一起真空包裝來實(shí)現(xiàn)。

Table1-11. Empirical values of film unisharpness Uf at various radiation energies using lead intensifying screen: 使用鉛增強(qiáng)屏在各種輻射能量下薄膜單銳度uf的參考值
Radiation energy: 輻射能量
Uf in mm: 每毫米膠片的Uf值
Fig. 4-11, Graphical representation of table 1-11. Values of Uf for X- and Gamma radiation at increasing radiation energies: 圖 4-11 表示在表1-11中,X-和γ輻射在增加輻射能量時(shí)的Uf值.

從上述信息中可以推導(dǎo)出,當(dāng)輻射能量增加時(shí),Uf 也會(huì)增加。

總的不清晰度

膠片的總不清晰度 Ut 是由Ug 和 Uf 的組合確定的。兩個(gè)值不能簡單地相加以得到 Ut 的數(shù)值。

在實(shí)踐中,以下公式為膠片的不清晰度 Ut 提供了最佳的近似值:

Ut計(jì)算公式

大體上,如果一個(gè)不清晰度值(Ug 或 Uf)是另一個(gè)值的兩倍以上,那么總的不清晰度等于單個(gè)值中的最大值;如果兩個(gè)不清晰度值相等,那么總的不清晰度約為單個(gè)值的開根號(hào)2即1.4 倍。

如有必要,可以通過增加焦距到膠片的距離來減少Ug。但這只能在有限的范圍內(nèi)進(jìn)行,因?yàn)橛捎谄椒椒幢榷?,曝光時(shí)間會(huì)變得極長。作為一種折中,選擇了一個(gè)最佳的焦距到膠片距離 F,使得Ug=Uf。

因此,通過增加源到膠片的距離的方式,可以將 Ug 減少到所需的任何值。但考慮到平方反比定律,這個(gè)距離不能無限制地增加,否則會(huì)導(dǎo)致極長的曝光時(shí)間。該公式還指出,隨著缺陷與膠片之間的距離增加,幾何不清晰度的重要性越來越大。

但當(dāng)使用焦點(diǎn)尺寸在 10-50 μm 范圍內(nèi)的微焦點(diǎn)X射線管時(shí),會(huì)出現(xiàn)一個(gè)特殊情況。在這么小的焦點(diǎn)尺寸的情況下,可以通過使用短的源到標(biāo)本距離和大的標(biāo)本到膠片距離故意放大圖像,同時(shí)仍然保持一個(gè)可接受的小的 Ug 值。這種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),稱為“投影放大方法”,在辨識(shí)非常小的缺陷時(shí),膠片圖像中總是存在的顆粒度對(duì)結(jié)果的干擾較小。

圖 2-11 顯示了幾何不清晰度對(duì)焦點(diǎn)尺寸小于缺陷的圖像的影響。

Fig.2-11. Geometric unsharpness: effect on the image of a small defect圖2-11. 幾何不清晰度:對(duì)小缺陷圖像的影響
A. Point focus size-s-: no geometric unsharpness-defect image sharp A.點(diǎn)焦點(diǎn)尺寸-s-:無幾何不清晰-缺陷圖像清晰
B. Small focus size--s-:geometric unsharpness Ug-defect image blurred B.焦距尺寸小--s-:幾何不清晰度Ug 缺陷圖像模糊
C.Increased fucus size ---s-: still larger Ug – defect image blurred and loss of contrast – Co is less than in A and B C.焦距尺寸增加---s-:仍然較大的 Ug – 缺陷圖像模糊和對(duì)比度損失 – Co小于A和B
Co=contrast
Co=對(duì)比度